在大規(guī)模成像場景中，常規(guī)掃描電鏡成像速度和自動化程度都無法滿足應用需求。例如，在芯片結構成像應用中，需要在幾周內完成數百平方毫米區(qū)域的連續(xù)拍攝；在人類腦圖譜研究中，需要對百億級神經元進行高分辨成像。對于此類場景，常規(guī)掃描電鏡效率嚴重不足，為解決客戶痛點，國儀量子于近日推出一款專為大規(guī)模成像而生的新產品——高速掃描電子顯微鏡HEM6000。

高速掃描電子顯微鏡HEM6000

高速自動化
HEM6000

HEM6000是一款可實現(xiàn)跨尺度大規(guī)模樣品成像的高速掃描電子顯微鏡。采用高亮度大束流電子槍、高速電子偏轉系統(tǒng)、高壓樣品臺減速、動態(tài)光軸、浸沒式電磁復合物鏡等技術，實現(xiàn)了高速圖像采集和成像，同時保證了納米級分辨率。面向應用場景的自動化操作流程設計，使得大面積的高分辨率圖像采集工作更高效、更智能。成像速度可達常規(guī)場發(fā)射掃描電鏡的5倍以上。可廣泛應用于半導體工業(yè)、生命科學、材料科學、地質科學等領域。

圖像采集速度：10 ns/pixel，2*100 M pixel/s

加速電壓：100 V~6 kV(減速模式)；6 kV~30 kV(非減速模式)

分辨率：1.3 nm@3 kV，SE；2.2 nm@1 kV，SE

視場大?。?/span>最大視場1*1 mm2，高分辨微畸變視場32*32 um2

樣品臺精度：重復定位精度：X ±0.6 um；Y ±0.3 um

產品優(yōu)勢
HEM6000

高速自動化

全自動上下樣流程和采圖作業(yè)，

綜合成像速度優(yōu)于常規(guī)場發(fā)射掃描電鏡的5倍

大場低畸變

跟隨掃描場動態(tài)變化的光軸，實現(xiàn)了更低的場邊緣畸變

低壓高分辨

樣品臺減速技術，實現(xiàn)低落點電壓，同時保證高分辨率

應用案例
HEM6000